K&F Concept Nano-X Black Mist 1/4 Pro Fuji
K&F Concept
KF Concept Nano-X Black Mist 1/4 je kreativní filtr navržený speciálně pro fotoaparáty Fujifilm X100, X100F, X100S, X100T, X100V a X100VI. Vytváří jemný mlžný efekt s redukcí kontrastu a ostrosti, který zjemňuje pleť, potlačuje nedokonalosti a dodává záběrům filmovou atmosféru.
Filtr je vyroben z prémiového japonského optického skla s 28vrstvou nanopovrchovou úpravou, která zajišťuje vysokou propu...
Filtr je vyroben z prémiového japonského optického skla s 28vrstvou nanopovrchovou úpravou, která zajišťuje vysokou propustnost světla, voděodolnost, odolnost vůči oleji a poškrábání i minimalizaci odlesků. CNC rám s protiskluzovým lichoběžníkovým vzorem usnadňuje manipulaci a jeho magnetický design umožňuje kombinaci s 52mm magnetickými filtry bez omezení použití originální krytky objektivu.
TECHNICKÉ SPECIFIKACE
Kompatibilita:
Fuji X100/X100F/X100S/X100T/X100V/X100VI
Materiál:
letecký hliník
Typ filtru:
Black Mist
Difuze:
1/4
OBSAH BALENÍ
1) KF Concept Nano-X Black Mist 1/4 filtr pro Fuji X100/X100F/X100S/X100T/X100V/X100VI
2) Pouzdro