K&F Concept KF01.996V1 Nano-X MRC CPL 72mm

KF Concept Nano-X MCUV filtr je navržen s pokročilou technologií 28 vrstev vícevrstvých nanotechnologických povlaků, které efektivně blokují škodlivé UV záření a snižují riziko nechtěné mlhy na fotografiích. Tento filtr také zlepšuje kontrast a celkovou ostrost snímků, čímž přináší vyšší kvalitu výsledných záběrů. Kromě optického vylepšení nabízí filtr ochranu objektivu před prachem, vodou, otisky prstů a poškrábáním, což z něj dělá ideální volbu pro každodenní fotografování v různých podmínkách.
49mm
52mm
 55mm
 58mm
62mm
67mm
72mm
77mm
82mm
86mm
95mm
105mm
112mm
127mm
 
TECHNICKÉ SPECIFIKACE
Typ filtru:
CPL
Průměr filtrů:
Průměr filtru je uveden v názvu produktu
Tloušťka rámečku:
5,3 mm
Materiál rámečku:
Letecká hliníková slitina, Japonské AGC sklo
Odrazivost:
0,2%
 
OBSAH BALENÍ
1) Filtr
2) Pouzdro