GVS ELIPSE polomaska A1P3

Filtr třídy ABEK1 P3 slouží k zachycení částic: A  organické plyny a páry s bodem varu nad 65°C, B anorganické plyny a páry (kromě oxidu uhelnatého), E  oxid siřičitý a další kyselé plyny a páry, K  amoniak a organické deriváty amoniaku do koncentrace 1,000 ppm. Částicový filtr P3 zachycuje 99,95% všech prachových a aerosolových částic do velikosti 0,3 µm. Pro práci např. s rozpouštědly, chlorem, formaldehydem, prachem kyseliny sírové. Částicový filtr P3 je vyroben ze speciálního média HESPA (High Efficiency Synthetic Particulate Airfilter) a umožňuje záchyt částic hexavalentního (šestimocného) chromu a částic manganu při práci s nerezavějícícmi ocelemi, oxidů zinku při práci s pokovenými výrobky, částic hliníku a výparů olova, s filtrem proti nežádoucím pachům.
Schváleno dle EN140: 1998. APF 20.
Cena včetně filtrů.Hmotnost 258 g
Možno sterilizovat. 
Tabulka náhradních dílů
Výběr velikosti masky